哈西奈德溶液

復方克霉唑乳膏

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品為復方制劑，每克含克霉唑0.015克、尿素0.15克。

安徽艾珂爾制藥有限公司

廣州力純制藥有限公司

國藥準字H34020118

國藥準字H20013256

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于真菌病，如手癬、足癬、股癬、體癬及花斑癬。

外涂患處每日早晚各一次。

局部外用。取本品適量，涂于患處，一日2～3次。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

使用該藥物可能導致皮膚刺激、過敏反應、皮疹、瘙癢、灼熱感等局部不適。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于真菌病，如手癬、足癬、股癬、體癬及花斑癬。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

偶見過敏反應，如皮疹、瘙癢等。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

使用該藥物可能導致皮膚刺激、過敏反應、皮疹、瘙癢、灼熱感等局部不適。