哈西奈德乳膏

硫軟膏

本品主要成份為哈西奈德

本品每克含主要成分升華硫0.1克。輔料為:輕質液狀石蠟、石蠟、黃凡士林。

特一藥業集團股份有限公司

廣東恒健制藥有限公司

國藥準字H44021100

國藥準字H44023930

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于疥瘡、頭癬、痤瘡、脂溢性皮炎、酒渣鼻、單純糠疹和慢性濕疹。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用，涂于洗凈的患處，一日1～2次。對于疥瘡，將藥膏涂于頸部以下的全身皮膚，尤其是皮膚褶皺處，每晚1次，3天為一療程，換洗衣服、洗澡。需要時停用3天，再重復第二個療程。兒童及孕婦用量請咨詢醫師。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

偶見皮膚刺激，瘙癢和燒灼感。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于疥瘡、頭癬、痤瘡、脂溢性皮炎、酒渣鼻、單純糠疹和慢性濕疹。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

本品對疥蟲、細菌、真菌有殺滅作用，并能除去油脂及軟化表皮、溶解角質，其作用機制是硫黃與皮膚及組織分泌物接觸后，生成硫化氫和連五硫酸等的結果。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1.本品濃度較高，對兒童刺激性大，使用時應咨詢醫師。 2.不得與其他外用藥物并用。 3.避免接觸眼睛和其他黏膜(如口、鼻等)。 4.用藥部位如有燒灼感、紅腫等情況應停藥，并將局部藥物洗凈，必要時向醫師咨詢。 5.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。 6.本品性狀發生改變時禁止使用。 7.請將本品放在兒童不能接觸的地方。 8.兒童必須在成人監護下使用。 9.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。