哈西奈德乳膏

復方克霉唑乳膏(II)

本品主要成份為哈西奈德

本品為復方制劑，其組份為：每克乳膏含二丙酸倍他米松0.64mg(相當于倍他米松0.5mg)，克霉唑10mg，硫酸慶大霉素(以慶大霉素計)1.0mg。

特一藥業集團股份有限公司

香港澳美制藥廠有限公司北京代表處

國藥準字H44021100

國藥準字HC20160022

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

適用于對皮質類固醇藥物敏感的皮膚炎性疾病(如接觸性皮炎、濕疹、神經性皮炎等伴發細菌和真菌感染)。

外涂患處，每日早晚各一次。

每日二次:先將患處清洗，將小量乳膏涂于患處，然后輕輕摩擦，使其充分滲入皮膚。為保證治療各種皮膚病的療效，用藥療程應足夠，每個療程根據個別患者及深淺情況而定或遵醫生指示使用。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

偶見色素減退、灼痛、紅斑、滲出、瘙癢等。可出現皮膚變薄，毛細血管擴張。可見皮膚干燥，多毛，萎縮紋，對感染的易感性增加等。長期用藥可能會引起皮質功能亢進癥，表現痤瘡，滿月臉，骨質疏松等。

孕婦及哺乳期婦女用藥：孕婦及哺乳期婦女應在醫師指導下，權衡利弊后慎用。兒童用藥：嬰兒或幼兒不宜長期或大面積使用。老年用藥：老年患者慎用。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

適用于對皮質類固醇藥物敏感的皮膚炎性疾病(如接觸性皮炎、濕疹、神經性皮炎等伴發細菌和真菌感染)。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1)長期使用倍他米松外用藥物，可能會出現內服時引起的副作用。 2)長期使用慶大霉素可能引致抗藥細菌進度生長。 3)如大面積使用本品或使用封閉性敷料，倍他米松或慶大霉素在體內的吸收將會增加而產生副作用。 4)避免長期用于細嫩皮膚及面部，盡量避免在開放性傷口或損傷皮膚使用，如必須使用，應加倍小心。 5)使用時如發生刺激反應或過敏反應，應停藥并進行適當治療。