哈西奈德乳膏

聯苯芐唑乳膏

本品主要成份為哈西奈德

本品主要成份為聯苯芐唑。

特一藥業集團股份有限公司

安徽江中高邦制藥有限責任公司

國藥準字H44021100

國藥準字H20034157

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品用于治療各種皮膚真菌病，如手、足癬，體、股癬，花斑癬。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用，一日1次，2～4周為一療程。涂布患處，并輕輕揉搓幾分鐘

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

對本品任何成份過敏者禁忌。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品用于治療各種皮膚真菌病，如手、足癬，體、股癬，花斑癬。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

偶見過敏反應。個別患者局部發生瘙癢、灼熱感、紅斑等反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1.避免接觸眼睛和其他黏膜(如口、鼻等)。 2.用藥部位如有燒灼感、紅腫等情況應停藥，并將局部藥物洗凈，必要時向醫師咨詢。 3.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。 4.本品性狀發生改變時禁止使用。 5.請將本品放在兒童不能接觸的地方。 6.兒童必須在成人監護下使用。 7.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師