哈西奈德乳膏

醋酸地塞米松乳膏

本品主要成份為哈西奈德

本品主要成份醋酸地塞米松C。

特一藥業集團股份有限公司

楚雄云植藥業有限公司

國藥準字H44021100

國藥準字H53020117

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品主要用于過敏性和自身免疫性炎癥性疾病。如局限性瘙癢癥，神經性皮炎，接觸性皮炎，脂溢性皮炎，慢性濕疹等。

外涂患處，每日早晚各一次。

涂患處，一日2～3次。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

真菌性或病毒性皮膚病禁用，對本藥及其他皮質類固醇過敏者禁用。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品主要用于過敏性和自身免疫性炎癥性疾病。如局限性瘙癢癥，神經性皮炎，接觸性皮炎，脂溢性皮炎，慢性濕疹等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

長期大量使用可繼發細菌、真菌感染，局部可發生痤瘡、酒渣樣皮炎、皮膚萎縮及毛細血管擴張，并可有瘙癢、色素沉著、顏面紅斑、創傷愈合障礙等反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1.并發細菌及病毒感染時，應與抗菌藥物合用。2.不能長期大面積應用。