哈西奈德乳膏

倍他米松新霉素乳膏

本品主要成份為哈西奈德

復方制劑，其組分為每克含倍他米松戊酸酯以倍他米松計為1毫克及硫酸新霉素3500單位。

特一藥業集團股份有限公司

珠海聯邦制藥股份有限公司中山分公司

國藥準字H44021100

國藥準字H20040492

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品用于治療對腎上腺皮質激素敏感的皮炎，該癥同時伴有由對新霉素敏感的細菌或懷疑是新霉素敏感的細菌引起的二重感染，包括接觸性皮炎、過敏性皮炎及各型濕疹等皮膚病。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用，涂擦于患處，一天2次。連續使用本品不宜超過2周。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

報道和外用腎上腺皮質激素有關的局部副作用尤其是封閉式地敷藥時，包括：灼燒感，癢，刺痛，干燥，多毛，突發粉刺，色素沉著，口周圍皮炎，過敏性接觸性皮炎，皮膚浸潤，繼發性感染，皮膚萎縮，痱子等。和外用新霉素有關的耳毒性、腎毒性、過敏反應也有報道。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品用于治療對腎上腺皮質激素敏感的皮炎，該癥同時伴有由對新霉素敏感的細菌或懷疑是新霉素敏感的細菌引起的二重感染，包括接觸性皮炎、過敏性皮炎及各型濕疹等皮膚病。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

外用皮質激素可能發生任何系統使用皮質激素包括腎上腺抑制劑時發生的副作用，尤其是嬰兒和兒童使用時。大面積外用或封閉式涂敷可導致皮質激素或新霉素全身性吸收。避免將新霉素用于開放性傷口或損傷的皮膚。嬰兒和兒童或長時間使用時更應注意。延長外用抗生素的使用可能導致非敏感細菌的過度生長，包括真菌。如果發生刺激、過敏或深度感染應停藥并治療。本藥不能用于眼睛。慎用于面部、皮膚褶皺部位如腋下、腹股溝等。