哈西奈德乳膏

鹽酸特比萘芬噴霧劑

本品主要成份為哈西奈德

本品每毫升含主要成分鹽酸特比萘芬0.01克。輔料為：乙醇、1.2-丙二醇、純化水。

特一藥業集團股份有限公司

山東京衛制藥有限公司

國藥準字H44021100

國藥準字H20113280

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于治療手癬、足癬、體癬、股癬及花斑癬等。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用，噴于患處，一日2～3次。療程1～2周。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

偶見皮膚刺激如燒灼感，或過敏反應如皮疹、搔癢等。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于治療手癬、足癬、體癬、股癬及花斑癬等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

本品為廣譜抗真菌藥，能高度選擇性地抑制真菌麥角鯊烯環氧化酶，阻斷真菌細胞膜形成過程中的麥鯊烯環氧化反應而干擾真菌固醇的早期生物合成，從而發揮抑制和殺滅真菌的作用。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1.孕婦及哺乳期婦女慎用。 2.避免接觸眼睛和其他粘膜（如口、鼻等）。 3.用藥部位如有燒灼感、紅腫等情況應停藥，并將局部藥物洗凈，必要時向醫師咨詢。 4.本品涂敷后不必包扎。 5.不得用于皮膚破潰處。 6.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。 7.本品性狀發生改變時禁止使用。 8.請將本品放在兒童不能接觸的地方。 9.兒童必須在成人監護下使用。 10.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。