哈西奈德乳膏

硼酸洗液

本品主要成份為哈西奈德

本品每毫升含硼酸30毫克，輔料為：純化水。

特一藥業集團股份有限公司

上海運佳黃浦制藥有限公司

國藥準字H44021100

國藥準字H31022883

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

消毒防腐藥，用于沖洗小面積創面與黏膜面。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用沖洗或濕敷。濕敷時，用6-8層紗布浸于本品冷溶液中，輕擠壓后，敷于患處，5-10分鐘后更換，連續使用1小時。每日重復上法4次。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

偶有輕微刺激。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

消毒防腐藥，用于沖洗小面積創面與黏膜面。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1. 避免接觸眼睛和皮膚；2. 操作時需佩戴防護手套和護目鏡；3. 使用后徹底清洗雙手；4. 儲存于兒童無法觸及的地方。