哈西奈德溶液

阿莫西林克拉維酸鉀片

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品為復方制劑，其組分為克拉維酸鉀、阿莫西林

北京曙光藥業有限責任公司

魯南貝特制藥有限公司

國藥準字H11021030

國藥準字H20053424

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

本品適用于敏感菌引起的各種感染，如： 1．上呼吸道感染：鼻竇炎、扁桃體炎、咽炎等。 2．下呼吸道感染：急性支氣管炎、慢性支氣管炎急性發作、肺炎、肺膿腫和支氣管合并感染等。 3．泌尿系統感染：膀胱炎、尿道炎、腎盂腎炎、前列腺炎、盆腔炎、淋病奈瑟菌尿路感染及軟性下疳等。 4．皮膚和軟組織感染：癤、膿腫、蜂窩組織炎、傷口感染、腹內膿毒癥等。 5．其他感染：中耳炎、骨髓炎、敗血癥、腹膜炎和手術后感染等

外涂患處每日早晚各一次。

口服。成人和12歲以上小兒 一次1片，一日3次。嚴重感染時劑量可加倍。未經重新檢...

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

1．常見胃腸道反應如腹瀉、惡心和嘔吐等。 2．皮疹，尤其易發生于傳染性單核細胞增多癥者。 3．可見過敏性休克、藥物熱和哮喘等。 4．偶見血清氨基轉移酶升高、嗜酸性粒細胞增多、白細胞降低及念珠菌或耐藥菌引起的二重感染。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

本品適用于敏感菌引起的各種感染，如： 1．上呼吸道感染：鼻竇炎、扁桃體炎、咽炎等。 2．下呼吸道感染：急性支氣管炎、慢性支氣管炎急性發作、肺炎、肺膿腫和支氣管合并感染等。 3．泌尿系統感染：膀胱炎、尿道炎、腎盂腎炎、前列腺炎、盆腔炎、淋病奈瑟菌尿路感染及軟性下疳等。 4．皮膚和軟組織感染：癤、膿腫、蜂窩組織炎、傷口感染、腹內膿毒癥等。 5．其他感染：中耳炎、骨髓炎、敗血癥、腹膜炎和手術后感染等

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

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