哈西奈德溶液

鹽酸布替萘芬乳膏

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成份為鹽酸布替萘芬，其化學名稱為：N-甲基-N-（4-叔丁基芐基）-1-萘甲胺鹽酸鹽。

北京曙光藥業有限責任公司

魯南貝特制藥有限公司

國藥準字H11021030

國藥準字H20031310

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

主要用于由絮狀癬菌、紅色癬菌、須發癬菌及斑禿癬菌等引起的足趾癬、體癬、股癬的局部治療。

外涂患處每日早晚各一次。

外用。每次適量搽于患處，用于足趾癬時，一天2次，連用7天，或一天1次，連用4周；用于體癬、股癬時，一天1次，連用2周。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

對已知或懷疑對鹽酸布替萘芬搽劑或其成份有過敏反應者禁用本品。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

主要用于由絮狀癬菌、紅色癬菌、須發癬菌及斑禿癬菌等引起的足趾癬、體癬、股癬的局部治療。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

少于2％患者有接觸性皮炎、紅斑、刺激、干燥、瘙癢、燒灼感及癥狀加重等不良反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.僅供外用，切忌口服。不宜用于眼部、粘膜部位、急性炎癥部位及破損部位。2.用藥部位如有燒灼感、紅腫等情況應停藥，并將局部藥物洗凈，必要時向醫師咨詢。3.本品涂敷后不必包扎。4.孕婦及哺乳期婦女慎用。5.兒童應在醫師指導下使用。6.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。7.本品性狀發生改變時禁止使用。8.請將本品放在兒童不能接觸的地方。9.兒童必須在成人監護下使用。10.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。