哈西奈德溶液

聯苯芐唑乳膏

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成份為聯苯芐唑。每支含聯苯芐唑200毫克（每支20克）；每支含聯苯芐唑150毫克（每支15克），輔料為硬脂酸，單硬脂酸甘油酯，十八醇，十六醇，司盤60，丙二醇，甘油，乳化硅油，十二烷基磷酸酯鉀鹽，杰馬A（二偶氮烷基脲），純化水。

北京曙光藥業有限責任公司

江蘇遠恒藥業有限公司

國藥準字H11021030

國藥準字H20057164

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于治療各種皮膚真菌病，如手、足癬，體、股癬，花斑癬。

外涂患處每日早晚各一次。

涂于患處。一日1次，2～4周為一療程。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

對咪唑類藥物有過敏史者或對本品過敏者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于治療各種皮膚真菌病，如手、足癬，體、股癬，花斑癬。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

偶見過敏反應。個別患者局部發生瘙癢、灼熱感、紅斑等反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.避免接觸眼睛和其他黏膜（如口、鼻等）。 2.用藥部位如有燒灼感、紅腫等情況應停藥，并將局部藥物洗凈，必要時向醫師咨詢。 3.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。 4.本品性狀發生改變時禁止使用。 5.請將本品放在兒童不能接觸的地方。 6.兒童必須在成人監護下使用。 7.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。