哈西奈德溶液

安乃近注射液

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成份為：安乃近。其化學名稱為：[（1,5-二甲基-2-苯基-3-2，3-二氫-1H-吡唑-4-基）甲氨基]甲烷磺酸鈉鹽一水合物。 分子式：C13H16N3NaO4S·H2O 分子量：351.36

北京曙光藥業有限責任公司

江蘇漣水制藥有限公司

國藥準字H11021030

國藥準字H32020173

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于高熱時的解熱，也可用于頭痛、偏頭痛、肌肉痛、關節痛和痛經等。本品亦有較強的抗風濕作用，可用于急性風濕性關節炎，但因本品有可能引起嚴重的不良反應，很少在風濕性疾病中應用。

外涂患處每日早晚各一次。

深部肌肉注射一次0.25～0.5g；小兒一次5～10mg/kg。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

對本品或氨基比林有過敏史者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于高熱時的解熱，也可用于頭痛、偏頭痛、肌肉痛、關節痛和痛經等。本品亦有較強的抗風濕作用，可用于急性風濕性關節炎，但因本品有可能引起嚴重的不良反應，很少在風濕性疾病中應用。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

本品為氨基比林和亞硫酸鈉相結合的化合物，易溶于水，解熱、鎮痛作用較氨基比林快而強。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1本品較易引起不良反應，尤不宜用穴位注射，特別禁用于關節部位穴位。 2對藥物過敏者（如對吡唑酮類藥物）不宜用，不得與任何其他藥物混合注射。 3本品不應長期使用。較長時間使用可引起粒細胞減少，血小板減少性紫癜，嚴重者可有再生障礙性貧血甚至導致死亡。 4應嚴格控制劑量，成人一次不得超過0.5g，小兒一次以8～10mg/kg為宜。 5體弱者慎用。