哈西奈德溶液

偽麻那敏膠囊

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品為復方制劑，每粒含鹽酸偽麻黃堿90毫克．馬來酸氯苯那敏(撲爾敏)4毫克。輔料為：淀粉、蔗糖、羥丙基甲基纖維素、乙基纖維素聚合物、歐巴代黃色干噴料、歐巴代粉紅色干噴料。

北京曙光藥業有限責任公司

山東華信制藥集團股份有限公司

國藥準字H11021030

國藥準字H10970369

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

本品可減輕由于普通感冒、流行性感冒引起的上呼吸道癥狀和鼻竇炎、枯草熱所致的各種癥狀，特別適用于緩解上述疾病的早期臨床癥狀

外涂患處每日早晚各一次。

口服。成人每l2小時服1粒．24小時內不應超過2粒。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

可能導致口干、頭暈、心悸、失眠、惡心等。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

本品可減輕由于普通感冒、流行性感冒引起的上呼吸道癥狀和鼻竇炎、枯草熱所致的各種癥狀，特別適用于緩解上述疾病的早期臨床癥狀

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

鹽酸偽麻黃堿為擬腎上腺素藥，具有收縮上呼吸道毛細血管、消除鼻咽部黏膜充血、減輕鼻塞癥狀的作用；馬來酸氯苯那敏為抗組胺藥．能進一步減輕感冒引起的鼻塞、流涕、打噴嚏等癥狀。本品內容物中既含有速釋小丸，也含有能在一定時間內發揮作用的緩釋小丸，其有效濃度可維持l2小時。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

可能導致口干、頭暈、心悸、失眠、惡心等。