哈西奈德溶液

安乃近片

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成分為安乃近，其化學名為[(1,5-二甲基-2-苯基-3-氧代-2，3-二氫-1H-吡唑-4-基)甲氨基]甲烷磺酸鈉鹽水合物。 分子式：C13H16N3NaO4S·H2O 分子量：351.36

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上海玉安藥業(yè)有限公司

國藥準字H11021030

國藥準字H34021406

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于高熱時的解熱，也可用于頭痛、偏頭痛、肌肉痛、關節(jié)痛、痛經等。本品亦有較強的抗風濕作用，可用于急性風濕性關節(jié)炎，但因本品有可能引起嚴重的不良反應，很少在風濕性疾病中應用。

外涂患處每日早晚各一次。

口服成人常用量：一次0.5～1g，需要時服1次，最多一日3次。小兒：按體重一次10～20mg/kg，一日2～3次。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發(fā)性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

對本品或氨基比林有過敏史者禁用。

兒童注意事項： 尚不明確。 妊娠與哺乳期注意事項： 安乃近的代謝產物可進入乳汁。孕婦及哺乳期婦女不宜應用。 老人注意事項： 慎用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于高熱時的解熱，也可用于頭痛、偏頭痛、肌肉痛、關節(jié)痛、痛經等。本品亦有較強的抗風濕作用，可用于急性風濕性關節(jié)炎，但因本品有可能引起嚴重的不良反應，很少在風濕性疾病中應用。

少數患者涂藥部位的皮膚發(fā)生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發(fā)生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發(fā)生）皮膚萎縮后繼發(fā)紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發(fā)真菌感染。經皮膚吸收多時，可發(fā)生全身性不良反應。

本品為氨基比林和亞硫酸鈉相結合的化合物，易溶于水，解熱、鎮(zhèn)痛作用較氨基比林快而強。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發(fā)生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

（1）本品與阿司匹林有交叉過敏反應。 （2）本品一般不作首選用藥，僅在急性高熱、病情急重，又無其他有效解熱藥可用的情況下用于緊急退熱。 （3）本品用藥超過1周時應定期檢查血象，一旦發(fā)生粒細胞減少，應立即停藥。