復(fù)方醋酸曲安奈德溶液

他克莫司軟膏

本品為復(fù)方制劑，每毫升含醋酸曲安奈德1毫克、水楊酸20毫克、月桂氮酮0.02毫升、丙二醇0.45毫升、乙醇適量。

本品主要成份為：他克莫司。

廣東恒誠(chéng)制藥股份有限公司

江蘇知原藥業(yè)股份有限公司

國(guó)藥準(zhǔn)字H10930202

國(guó)藥準(zhǔn)字H20193265

用于過(guò)敏性皮炎，神經(jīng)性皮炎，慢性濕疹。

本品適用于非免疫受損的因潛在危險(xiǎn)而不宜使用傳統(tǒng)療法、或?qū)鹘y(tǒng)療法反應(yīng)不充分、或無(wú)法耐受傳統(tǒng)療法的中到重度特應(yīng)性皮炎患者的治療，可作為短期或間歇性長(zhǎng)期治療。本品不適用于兒童。

局部外用。取本品適量涂于患處，每日2次，癥狀控制后改為每日或隔日1次，連用不超過(guò)1周。小兒不推薦使用。

在患處皮膚涂上一薄層本品，輕輕搽勻，并完全覆蓋，一天兩次。本品應(yīng)采用能控制特應(yīng)性皮炎癥狀盒體征的最小量。當(dāng)特應(yīng)性皮炎的癥狀和體征消失時(shí)應(yīng)停止使用。本品不應(yīng)采用封包輔料外用。

皮膚感染或有滲出、糜爛和破損者禁用。

在分別有12例和216例健康志愿者參加的臨床研究中，未發(fā)現(xiàn)藥物具有光毒性和光致敏性。詳見(jiàn)說(shuō)明書。

孕婦及哺乳期婦女用藥：致畸作用：妊娠用藥分級(jí)C：目前還未對(duì)妊娠婦女局部應(yīng)用本品進(jìn)行過(guò)足夠的適當(dāng)對(duì)照的研究。本品用于妊娠婦女的經(jīng)驗(yàn)也非常有限，尚不足以對(duì)其在妊娠期間應(yīng)用的安全性進(jìn)行評(píng)價(jià)。對(duì)大鼠和家免進(jìn)行過(guò)全身性服用他克莫司的生殖毒性研究，當(dāng)給母體口服毒性劑量的藥物時(shí)胎兒產(chǎn)生不良反應(yīng)。在胚胎器官形成階段給家兔口服劑量為0.32和1.0mg/kg的他克莫司(以體表面積計(jì)，分別相當(dāng)于人用最大推薦劑量的0.04和10.12倍)，對(duì)母免產(chǎn)生毒性反應(yīng)，而且流產(chǎn)率升高。只是在更高劑量組見(jiàn)到有胎兒畸形和發(fā)育異常的比例升高。在胚胎器官形成階段給大鼠口服劑量為3.2mg/kg的他克莫司，對(duì)母鼠產(chǎn)生毒性反應(yīng)，并導(dǎo)致后期再吸收增加、產(chǎn)活胎數(shù)量減少、幼鼠體重和發(fā)育能力降低。在過(guò)了胚胎器官形成期后以及在哺乳期間，給妊娠大鼠口服1.0和3.2mg/kg(以體表面積計(jì)，相當(dāng)于人用最大推薦劑量的0.04和0.12倍)的他克莫司，可導(dǎo)致幼鼠體重下降。未見(jiàn)到雄性或雌性動(dòng)物生殖能力降低。未對(duì)妊娠婦女全身性應(yīng)用他克莫司進(jìn)行過(guò)適當(dāng)對(duì)照的研究。他克莫司可通過(guò)胎盤，在妊娠期間全身性服用他克莫司會(huì)導(dǎo)致新生兒高血鉀和腎功能紊亂。在妊娠期間

用于過(guò)敏性皮炎，神經(jīng)性皮炎，慢性濕疹。

本品適用于非免疫受損的因潛在危險(xiǎn)而不宜使用傳統(tǒng)療法、或?qū)鹘y(tǒng)療法反應(yīng)不充分、或無(wú)法耐受傳統(tǒng)療法的中到重度特應(yīng)性皮炎患者的治療，可作為短期或間歇性長(zhǎng)期治療。本品不適用于兒童。

1、避免接觸眼睛和其他黏膜（如口、鼻等）。2、用藥部位如有燒灼感、紅腫等情況應(yīng)停藥，并將局部藥物洗凈，必要時(shí)向醫(yī)師咨詢。3、用藥過(guò)程中如因有刺激感而不能耐受時(shí)，或發(fā)生過(guò)敏癥狀，應(yīng)停藥并向醫(yī)師咨詢。4、不宜大面積、長(zhǎng)期使用；用藥1周后癥狀未緩解，請(qǐng)咨詢醫(yī)師。5、如并發(fā)細(xì)菌或真菌感染，請(qǐng)咨詢醫(yī)師處理。6、對(duì)本品過(guò)敏者禁用，過(guò)敏體質(zhì)者慎用。7、本品性狀發(fā)生改變時(shí)禁止使用。8、請(qǐng)將本品放在兒童不能接觸的地方。9、兒童必須在成人監(jiān)護(hù)下使用。10、如正在使用其他藥品，使用本品前請(qǐng)咨詢醫(yī)師或藥師。

1. 避免接觸眼睛和黏膜；2. 皮膚破損處慎用；3. 孕婦及哺乳期婦女慎用；4. 兒童使用需遵醫(yī)囑；5. 避免長(zhǎng)時(shí)間暴露于陽(yáng)光下。