哈西奈德乳膏

二硫化硒洗劑

本品主要成份為哈西奈德。

本品每克含主要成份二硫化硒25毫克。輔料為：二氧化鈦、甘油、皂土、枸櫞酸、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸酯、N.N-油酰甲基硫磺酸鹽、十二烷基甜菜堿、十二烷基硫酸鈉、二氧化鈦、檸檬酸、單硬脂酸甘油脂、硫酸二氫鈉、皂土、羊毛脂、甘油、香精、純化水。

廣東華潤(rùn)順?lè)逅帢I(yè)有限公司

江蘇迪賽諾制藥有限公司

國(guó)藥準(zhǔn)字H44023372

國(guó)藥準(zhǔn)字H10800003

用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經(jīng)性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于去頭屑、防治皮脂溢出、頭皮脂溢性皮炎、花斑癬(汗斑)。

外涂患處每日早晚各一次。

1.治療頭皮屑和頭皮脂溢性皮炎。(1)先用肥皂清洗頭發(fā)和頭皮。(2)取5～10克藥液于濕發(fā)及頭皮上，輕揉至出泡沫。(3)待3～5分鐘后，用溫水洗凈，必要時(shí)可重復(fù)一次。(4)每周2次，一個(gè)療程2～4周，必要時(shí)可重復(fù)1個(gè)或2個(gè)療程。2.治療花斑癬。(1)洗凈患處。(2)根據(jù)病患面積取適量藥液涂抹(一般10至30克)。(3)保留10～30分鐘后用溫水洗凈。(4)每周2次，一個(gè)療程2～4周，必要時(shí)可重復(fù)1個(gè)或2個(gè)療程。

少數(shù)患者涂藥部位的皮膚發(fā)生燒灼感、刺痛、暫時(shí)性瘙癢，長(zhǎng)期應(yīng)用可發(fā)生皮膚毛細(xì)血管擴(kuò)張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發(fā)生)、皮膚萎縮后繼發(fā)紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發(fā)真菌感染。經(jīng)皮膚吸收多時(shí)，可發(fā)生全身性不良反應(yīng)(參看注意事項(xiàng))。

偶可引起接觸性皮炎、頭發(fā)或頭皮干燥、頭發(fā)脫色。

孕婦及哺乳期婦女用藥：尚無(wú)人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應(yīng)慎用。外用經(jīng)皮吸收大量時(shí)可從乳汁排泄，哺乳期慎用。兒童用藥：應(yīng)為小面積，短期應(yīng)用，一旦消退迅速停藥，一歲以內(nèi)兒童盡量不用此藥。老年用藥：尚不明確。

用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經(jīng)性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于去頭屑、防治皮脂溢出、頭皮脂溢性皮炎、花斑癬(汗斑)。

本品具有抗皮脂溢出作用，還具有一定的抗真菌作用。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 兒童使用需遵醫(yī)囑；4. 皮膚破損處不宜使用；5. 使用期間如出現(xiàn)過(guò)敏反應(yīng)應(yīng)立即停藥。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 過(guò)敏體質(zhì)者慎用；4. 避免與酸性物質(zhì)接觸；5. 儲(chǔ)存于陰涼干燥處。