哈西奈德乳膏

復方醋酸地塞米松乳膏

本品主要成份為哈西奈德。

本品為復方制劑，每克含醋酸地塞米松0.75毫克、樟腦10毫克、薄荷腦10毫克。父老為羥苯乙酯、香精、十六醇、液體石蠟、單、雙硬脂酸甘油酯、硬脂酸聚烴氧酯、甘油、依地酸二鈉、卡波姆、碳酸氫鈉、純化水。

廣東華潤順峰藥業有限公司

惠州市九惠制藥股份有限公司

國藥準字H44023372

國藥準字H44024170

用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于局限性瘙癢癥,神經性皮炎,接觸性皮炎,脂溢性皮炎以及慢性濕疹。

外涂患處每日早晚各一次。

外用，一日1-2次，取少量涂于患處、并輕柔片刻。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)、皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

長期大量長期使用可致皮膚萎縮,毛細管擴張,色素沉著以及繼發感染.偶見過敏反應。

孕婦及哺乳期婦女用藥：尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。兒童用藥：應為小面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。老年用藥：尚不明確。

用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于局限性瘙癢癥,神經性皮炎,接觸性皮炎,脂溢性皮炎以及慢性濕疹。

本品所含醋酸地塞米松為糖皮質激素，具有抗炎、抗過敏作用；薄荷腦、樟腦具有促進局部循環和輕度的消炎、止痛及止癢作用。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 兒童使用需遵醫囑；4. 皮膚破損處不宜使用；5. 使用期間如出現過敏反應應立即停藥。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 兒童應在醫生指導下使用；4. 長期大面積使用可能導致皮膚萎縮等不良反應；5. 出現過敏反應應立即停藥并就醫。